ASML levert de Twinscan NXE3800E; Eerste generatie Low-NA EUV-machine voor 2nm chips

[TI News Bot]

Hoewel Low-NA extreme ultraviolet lithography misschien niet meer in de schijnwerpers staat, gezien de nieuwe High-NA extreme ultraviolet machines die op de horizon verschijnen en waar Intel als eerste mee aan de slag wil gaan, zal het nog wel even duren voordat deze machines relevant worden. Het grootste deel van de chips die de komende jaren worden geproduceerd, zal nog steeds met behulp van de oudere Low-NA-technologie EUV lithografie-apparaten worden gemaakt. Daarom is het laatste nieuws van ASML zeer interessant.
... verder lezen