Nieuws en artikelen doorzoeken
{{#data.error.root_cause}}
{{/data.error}}
{{^data.error}}
{{#texts.summary}}
[{{{type}}}] {{{reason}}}
{{/data.error.root_cause}}{{texts.summary}} {{#options.result.rssIcon}} RSS {{/options.result.rssIcon}}
{{/texts.summary}} {{#data.hits.hits}}
{{#_source.featured}}
FEATURED
{{/_source.featured}}
{{#_source.showImage}}
{{#_source.image}}
{{/_source.image}}
{{/_source.showImage}}
{{/data.hits.hits}}
{{{_source.title}}} {{#_source.showPrice}} {{{_source.displayPrice}}} {{/_source.showPrice}}
{{#_source.showLink}} {{/_source.showLink}} {{#_source.showDate}}{{{_source.displayDate}}}
{{/_source.showDate}}{{{_source.description}}}
{{#_source.additionalInfo}}{{#_source.additionalFields}} {{#title}} {{{label}}}: {{{title}}} {{/title}} {{/_source.additionalFields}}
{{/_source.additionalInfo}}
Twinscan
-
ASML levert de Twinscan NXE3800E; Eerste generatie Low-NA EUV-machine voor 2nm chips
Hoewel Low-NA extreme ultraviolet lithography misschien niet meer in de schijnwerpers staat, gezien de nieuwe High-NA extreme ultraviolet machines die op de horizon verschijnen en waar Intel als eerste mee aan de slag wil gaan, zal het nog wel even duren voordat deze machines relevant worden. Het grootste deel van de chips die de komende jaren worden geproduceerd, zal nog steeds met behulp van de oudere Low-NA-technologie EUV... [meer]