Advertentie
Het Nederlandse ASML en het Belgische Imec zijn een vijfjarige samenwerking aangegaan om Imec’s onderzoekers en ontwikkelaars direct toegang te geven tot de nieuwste chipfabricagetools van ASML. Deze samenwerking richt zich op de ontwikkeling van sub-2nm procestechnologieën, waarbij geavanceerde lithografie, metrologie en inspectie-apparatuur een belangrijke rol spelen.
Onder de overeenkomst krijgt Imec toegang tot een uitgebreid assortiment aan apparatuur, waaronder de Twinscan NXT (DUV), Twinscan NXE (Low-NA EUV met 0,33 NA) en Twinscan EXE (High-NA EUV met 0,55 NA) lithografiesystemen. Daarnaast worden ASML’s YieldStar optische metrologieoplossingen en HMI’s inspectietools geïntegreerd in Imec’s faciliteiten, die worden geïnstalleerd in zowel de pilotlijn in België als in de door de EU en Vlaanderen gefinancierde NanoIC-pilotlijn.
De nieuwe generatie High-NA EUV-tools, met een resolutie van 8nm per enkele belichting, is essentieel voor efficiënte fabricage op het 2nm-proces. Gezien de hoge kosten van zo’n systeem, ongeveer 350 miljoen euro per stuk, maakt deze samenwerking het voor Imec mogelijk om direct toegang te krijgen tot deze baanbrekende technologie, wat de snelheid van onderzoek aanzienlijk zal verhogen.
Naast de ontwikkeling van sub-2nm logic chips zullen ASML en Imec ook samenwerken op gebieden zoals DRAM-processen, siliciumfotonica en geavanceerde verpakkingsoplossingen voor chips. De gezamenlijke inspanning, mede gefinancierd door de Nederlandse overheid als een belangrijk Europees innovatieproject, versterkt niet alleen Imec’s onderzoeksfaciliteiten, maar biedt de gehele halfgeleiderindustrie geavanceerdere R&D-mogelijkheden om te voldoen aan de uitdagingen van AI-gedreven technologische ontwikkelingen.