Nieuws en artikelen doorzoeken
{{#data.error.root_cause}}
{{/data.error}}
{{^data.error}}
{{#texts.summary}}
[{{{type}}}] {{{reason}}}
{{/data.error.root_cause}}{{texts.summary}} {{#options.result.rssIcon}} RSS {{/options.result.rssIcon}}
{{/texts.summary}} {{#data.hits.hits}}
{{#_source.featured}}
FEATURED
{{/_source.featured}}
{{#_source.showImage}}
{{#_source.image}}
{{/_source.image}}
{{/_source.showImage}}
{{/data.hits.hits}}
{{{_source.title}}} {{#_source.showPrice}} {{{_source.displayPrice}}} {{/_source.showPrice}}
{{#_source.showLink}} {{/_source.showLink}} {{#_source.showDate}}{{{_source.displayDate}}}
{{/_source.showDate}}{{{_source.description}}}
{{#_source.additionalInfo}}{{#_source.additionalFields}} {{#title}} {{{label}}}: {{{title}}} {{/title}} {{/_source.additionalFields}}
{{/_source.additionalInfo}}
ASML
-
VS beschuldigt ASML van hulp aan China, chipmachinefabrikant ontkent aantijgingen fel
Het Nederlandse chipmachinebedrijf ASML heeft zich fel verweerd tegen beschuldigingen vanuit de Verenigde Staten dat het China zou hebben geholpen bij het verkrijgen van EUV-technologie. Volgens de Amerikaanse overheid zouden Chinese partijen mogelijk toegang hebben gekregen tot kennis of onderdelen die gebruikt kunnen worden voor de ontwikkeling van geavanceerde chipproductieapparatuur. ASML stelt echter dat het nooit EUV-machines of speciaal... [meer] -
Belgische Imec gaat aan de slag met ASML's meest geavanceerde chipmachine
Het Belgische onderzoekscentrum Imec is deze week gestart met het installeren van de ASML Twinscan EXE:5200. Dat is de meest geavanceerde High NA EUV-lithografiemachine die de Nederlandse fabrikant momenteel heeft te bieden. De onderzoekers gaan in Leuven met de machine aan de slag om onderzoek naar de volgende generatie chips te verrichten. De Twinscan EXE:5200 neemt het formaat van een stadbus aan en weegt niet minder dan 150 ton. Om die... [meer] -
ASML wil EUV-chipproductie met helft opdrijven tegen 2030 door nieuwe lichtbron
ASML heeft een doorbraak bereikt op het gebied van belichting in zijn EUV-lithografiemachines. Dat bevestigd het Nederlandse bedrijf in een interview met Reuters. Door het gebruik van een nieuwe lichtbron in zijn EUV-chipmachines moet het naar eigen zeggen mogelijk zijn om de chipproductie met maximaal de helft op te drijven tegen 2030. Onderzoekers van ASML hebben een manier ontdekt om de EUV-lichtbron te boosten van 600 naar 1.000 watt. Dit... [meer] -
Reuters: China bouwt prototype EUV-chipmachine met hulp van ex-ASML-ingenieurs
Chinese wetenschappers hebben een prototype gebouwd van een EUV-lithografiemachine, aldus Reuters. Met zo'n machine kunnen de meest geavanceerde chips worden gemaakt, waarvan de productie naar verwachting in 2030 zou kunnen starten. De technologie is geband voor export naar China, waardoor de overheid naar verluidt ex-ASML-werknemers inschakelde. Reuters spreekt van een Manhattan Project voor het land, een verwijzing naar de geheime... [meer] -
Rusland presenteert alternatieve EUV-roadmap tot 2037: sub-10nm productie zonder ASML-architectuur
Het Instituut voor Microstructuurfysica van de Russische Academie van Wetenschappen heeft een langetermijnplan gepresenteerd voor de ontwikkeling van eigen EUV-lithografiemachines met een golflengte van 11,2 nanometer. De roadmap loopt van 2026 tot 2037 en voorziet in een gefaseerde opbouw richting sub-10nm productietechnologie.{nozuna nzgallery}4267aac4-9ca2-11f0-8b63-000c2932240f{/nozuna nzgallery} Opvallend is dat de Russische aanpak niet... [meer] -
TSMC blijft bestaande technieken gebruiken, sluit High-NA-lithografie uit voor A14-node
Het Taiwanese TSMC zal géén gebruik maken van High-NA EUV-lithografie voor zijn toekomstige A14-node, bedoeld voor het angstrom-tijdperk. In plaats daarvan blijft het bedrijf vertrouwen op zijn bestaande EUV-apparatuur met een numerieke apertuur van 0.33. Kevin Zhang, Senior Vice President bij TSMC, liet weten dat het bedrijf bewust kiest voor vertrouwde technologieën om de productie beheersbaar te houden en de kosten te drukken.{nozuna... [meer] -
Onderzoekers van Peking University beweren zeer snelle en efficiënte bismut transistor te hebben ontwikkeld
Volgens de onderzoekers zou de zogeheten 2DGAA transistor beter presteren dan die gemaakt worden door Intel en TSMC. De onderzoeksresultaten zijn gepubliceerd in Nature en zouden een eerste stap kunnen zijn in het afstappen van op silicium gebaseerde chips. De transistors van het Peking University team zijn namelijk opgebouwd uit bismut-oxiselenide (Bi2O2Se). Dit 2D-materiaal heeft bepaalde voordelen tegenover silicium, die voornamelijk op de... [meer] -
ASML gaat langdurige samenwerking aan met het Belgische Imec
Het Nederlandse ASML en het Belgische Imec zijn een vijfjarige samenwerking aangegaan om Imec’s onderzoekers en ontwikkelaars direct toegang te geven tot de nieuwste chipfabricagetools van ASML. Deze samenwerking richt zich op de ontwikkeling van sub-2nm procestechnologieën, waarbij geavanceerde lithografie, metrologie en inspectie-apparatuur een belangrijke rol spelen.{nozuna nzimagefromgallery}4cf53135-002c-11f0-a756-000c2932240f 0{/nozuna... [meer] -
Hoofdingenieur Intel stelt dat eigen 18A-procede geavanceerder is dan aanbod van TSMC
Dit is in reactie op geruchten dat TSMC mogelijk de productietak van Intel (deels) zou overnemen. Volgens Joseph Bonetti, Intel’s ‘Principal Engineering Program Manager’, zou het bedrijf, en mogelijk de Amerikaanse overheid, een grote fout begaan met een dergelijke overeenkomst of overname. Dit stelde Bonetti in een inmiddels verwijderde LinkedIn-post. Het aankomende 18A-procede zou namelijk goed op weg zijn naar productie en beter zijn... [meer] -
ASML CEO stelt dat Chinese concurrenten nog ruim 10 jaar achterlopen op gebied van EUV, maar niet op het gebied van DUV
Sinds het exportverbod vanuit de Verenigde Staten voor Extreme Ultra Violet (EUV) lithografiemachines naar China, hebben Chinese chipfabrikanten de nodige moeite om zich verder te ontwikkelen. SMIC heeft in samenwerking met Huawei mooie stappen gemaakt wanneer het gaat om Deep Ultra Violet (DUV) lithografie, maar volgens ASML-topman Christophe Fouquet zal het nog zeker 10 tot 15 jaar duren eer de bedrijven ook EUV-machines zelf kunnen... [meer] -
Legoversie ASML-lithografiemachine niet bedoeld voor grote publiek, bedrijf schrapt orders
Begin deze maand heeft ASML samen met Lego een nieuw bouwpakket beschikbaar gemaakt van een van zijn lithografiesystemen. De 228 dollar kostende set van de Twinscan EXE:5000 blijkt dan toch niet voor het grote publiek te zijn bedoeld. Het Nederlandse bedrijf heeft namelijk op de productpagina aangevuld dat de set alleen kan worden gekocht door gebruikers met een ASML-mailadres. Dat wil zeggen dat enkel personeelsleden een exemplaar kunnen... [meer] -
ASML en LEGO maken bouwpakket van 227 dollar van lithografiemachine
ASML heeft samen met Lego een bouwpakket gemaakt van een van zijn lithografiesystemen. Om precies te zijn gaat het om de Twinscan EXE:5000 en is op dit moment een van de toonaangevende Extreme Ultraviolet Lithografie-machine beschikbaar. De set kost 227,95 dollar en lijkt alleen in de VS beschikbaar te zijn, voorlopig.{nozuna nzimagefromgallery}44660aa0-b09c-11ef-9766-000c2932240f 0{/nozuna nzimagefromgallery} De ASML Twinscan EXE:5000... [meer] -
ASML hoopt nog geavanceerdere “Hyper-NA” machines te leveren vanaf 2030
Tegen industrie verwachtingen in kondigde Martin van den Brink de volgende generatie van EUV-lithografie chips aan. De, tot voor kort, CTO van ASML liet weten dat de zogenaamde Hyper-NA machines in een vroeg stadium van ontwikkeling zijn. De modernste machines van ASML maken gebruik van een ‘numerical aperture’ of NA van 0,55. De eerste generatie van EUV had een NA van 0,33, en Hyper-NA moet staan voor een NA van 0,75. In 2021 gaf het bedrijf... [meer] -
Nederlandse ASML kan chipmachines in China uitschakelen, in geval van een inval van Taiwan
ASML zou de Chinese chipproductie kunnen dwarsbomen, in het geval van een Chinese inval van Taiwan. Volgens bronnen van Bloomberg kan de Nederlandse fabrikant zijn EUV-chipmachines, waar al enkele jaren een exportverbod naar China voor geldt, op afstand uitschakelen. Er zouden zelfs al simulaties zijn uitgevoerd, ter voorbereiding van zo’n mogelijke inval. De Amerikaanse overheid, die richting ASML zorgen uitte over de oplopende spanning... [meer] -
ASML levert de Twinscan NXE3800E; Eerste generatie Low-NA EUV-machine voor 2nm chips
Hoewel Low-NA extreme ultraviolet lithography misschien niet meer in de schijnwerpers staat, gezien de nieuwe High-NA extreme ultraviolet machines die op de horizon verschijnen en waar Intel als eerste mee aan de slag wil gaan, zal het nog wel even duren voordat deze machines relevant worden. Het grootste deel van de chips die de komende jaren worden geproduceerd, zal nog steeds met behulp van de oudere Low-NA-technologie EUV... [meer] -
Intel 14A-procedé biedt 15% meer prestaties per watt dan Intel 18A
Intel heeft meer informatie onthuld over zijn aankomende productieprocessen tijdens de SPIE 2024-beurs. Volgens senior vicepresident Anne Kelleher leveren Intel 14A-gebaseerde chips 15% meer prestaties per watt in vergelijk met producten die 18A gebruiken. Het daaropvolgende Intel 14A-E moet op zijn beurt de efficiëntie van 14A met nog eens 5% verhogen. De fabrikant heeft eind februari Intel 14A en 14A-E onthuld. De eerste testchips worden in... [meer]