Advertentie
Het Belgische onderzoekscentrum Imec is deze week gestart met het installeren van de ASML Twinscan EXE:5200. Dat is de meest geavanceerde High NA EUV-lithografiemachine die de Nederlandse fabrikant momenteel heeft te bieden. De onderzoekers gaan in Leuven met de machine aan de slag om onderzoek naar de volgende generatie chips te verrichten.
De Twinscan EXE:5200 neemt het formaat van een stadbus aan en weegt niet minder dan 150 ton. Om die reden wordt het apparaat in verschillende modules vervoerd. De eerste module werd deze week van Veldhoven naar Leuven gebracht en in de nieuwe 300mm-cleanroom van Imec gerold. Het systeem moet tegen het vierde kwartaal van dit jaar operationeel zijn. In de tussentijd blijft het gezamenlijke High NA EUV-lithografielab van ASML en Imec operationeel in Veldhoven.
Het lab in Leuven wordt de eerste plek in Europa waar een High NA EUV-machine wordt ingezet in een productielijn. De investering wordt gefinancierd door de Vlaamse en Nederlandse overheden, alsook Europa via de Chips Joint Undertaking. In de cleanroom van Imec komt het wereldwijde ecosysteem van chipfabrikanten, toestel- en materiaalleveranciers, en experten in metrologie samen om de volgende generatie chips, kleiner dan 2nm, te ontwikkelen.