High-NA
-
TSMC blijft bestaande technieken gebruiken, sluit High-NA-lithografie uit voor A14-node
Het Taiwanese TSMC zal géén gebruik maken van High-NA EUV-lithografie voor zijn toekomstige A14-node, bedoeld voor het angstrom-tijdperk. In plaats daarvan blijft het bedrijf vertrouwen op zijn bestaande EUV-apparatuur met een numerieke apertuur van 0.33. Kevin Zhang, Senior Vice President bij TSMC, liet weten dat het bedrijf bewust kiest voor vertrouwde technologieën om de productie beheersbaar te houden en de kosten te drukken.{nozuna... [meer] -
ASML hoopt nog geavanceerdere “Hyper-NA” machines te leveren vanaf 2030
Tegen industrie verwachtingen in kondigde Martin van den Brink de volgende generatie van EUV-lithografie chips aan. De, tot voor kort, CTO van ASML liet weten dat de zogenaamde Hyper-NA machines in een vroeg stadium van ontwikkeling zijn. De modernste machines van ASML maken gebruik van een ‘numerical aperture’ of NA van 0,55. De eerste generatie van EUV had een NA van 0,33, en Hyper-NA moet staan voor een NA van 0,75. In 2021 gaf het bedrijf... [meer]