TIE
  • Concurrentie voor ASML? Canon levert eerste nanoprint-lithografiemachine

    Canon heeft zijn allereerste nanoprint-lithografiemachine, de FPA-1200NZ2C, geleverd aan het Texas Institute for Electronics (TIE). Met deze machine positioneert Canon zich als een betaalbaar alternatief voor de ultraviolette (EUV) en diepe ultraviolette (DUV) fotolithografietechnologie van ASML, de Nederlandse marktleider. Betaalbaar alternatief voor EUV? Canon onthulde de FPA-1200NZ2C in oktober 2023 en prees de machine om zijn... [meer]