Advertentie
Canon heeft zijn allereerste nanoprint-lithografiemachine, de FPA-1200NZ2C, geleverd aan het Texas Institute for Electronics (TIE). Met deze machine positioneert Canon zich als een betaalbaar alternatief voor de ultraviolette (EUV) en diepe ultraviolette (DUV) fotolithografietechnologie van ASML, de Nederlandse marktleider.
Betaalbaar alternatief voor EUV?
Canon onthulde de FPA-1200NZ2C in oktober 2023 en prees de machine om zijn kostenefficiëntie. Hoewel de exacte prijs niet openbaar is gemaakt, stelde CEO Fujio Mitarai tijdens de lancering dat het prijskaartje “één cijfer lager ligt” dan dat van ASML’s EUV-machines. Aangezien de nieuwste High NA EUV-machines van ASML ongeveer $370 miljoen kosten, biedt Canon hiermee een aanzienlijk goedkoper alternatief.
Met deze lagere prijs richt Canon zich op kleinere fabrikanten die anders geen toegang zouden hebben tot geavanceerde lithografietechnologie. Dit zou de weg kunnen openen voor meer concurrentie en innovatie in de halfgeleiderindustrie.
Stempelen in plaats van projecteren
In tegenstelling tot de traditionele fotolithografie, die circuitpatronen projecteert op een met resist-coated wafer, gebruikt Canon’s nanoprint-technologie een fysiek masker. Een resist-coated wafer is een siliciumschijf (wafer) die bedekt is met een lichtgevoelige laag.
Canon's technologie, het fysiek masker met het patroon van het circuit, wordt direct op de wafer geperst als een stempel. Door de optische mechanismen uit het proces te verwijderen, heeft Canon de productiekosten en de eigendomskosten van de machine aanzienlijk verlaagd.
De FPA-1200NZ2C is in staat om halfgeleiders te produceren met structuren tot een 5nm node, en Canon claimt dat het systeem in de toekomst verfijnd kan worden om zelfs 2nm nodes te maken. Dit plaatst de technologie dicht bij de absolute top van halfgeleiderproductie.
Strategische keuze: TIE als partner
De eerste machine is geleverd aan het Texas Institute for Electronics (TIE), een consortium van de Universiteit van Texas. Dit instituut omvat grote namen zoals AMD, Applied Materials, Intel, en Micron. Het doel van TIE is om technologieontwikkeling te versnellen, infrastructuur te bouwen en een sterk opgeleide arbeidsmarkt te creëren voor zowel commerciële als defensie-gerichte toepassingen in de Amerikaanse halfgeleiderindustrie.
Op zijn website beschrijft TIE zijn missie als het bieden van “technologisch leiderschap” en het waarborgen van strategisch lange-termijn succes voor de VS in een sector die van cruciaal belang is voor zowel de economie als nationale veiligheid.
Een nieuwe speler op de markt?
Canon’s nanoprint-lithografiemachine biedt een interessante oplossing voor een markt die grotendeels wordt gedomineerd door ASML. Door een alternatieve aanpak te introduceren, verlaagt Canon niet alleen de kosten, maar democratiseert het ook toegang tot geavanceerde halfgeleidertechnologie.
Of deze technologie daadwerkelijk kan concurreren met ASML’s geavanceerde EUV-machines zal afhangen van hoe goed de prestaties en betrouwbaarheid zich ontwikkelen in productieomgevingen.
Eén ding is zeker: Canon's intrede brengt een frisse wind in een industrie die op zoek is naar meer diversiteit en betaalbaarheid.