Nieuws en artikelen doorzoeken
{{#data.error.root_cause}}
{{/data.error}}
{{^data.error}}
{{#texts.summary}}
[{{{type}}}] {{{reason}}}
{{/data.error.root_cause}}{{texts.summary}} {{#options.result.rssIcon}} RSS {{/options.result.rssIcon}}
{{/texts.summary}} {{#data.hits.hits}}
{{#_source.featured}}
FEATURED
{{/_source.featured}}
{{#_source.showImage}}
{{#_source.image}}
{{/_source.image}}
{{/_source.showImage}}
{{/data.hits.hits}}
{{{_source.title}}} {{#_source.showPrice}} {{{_source.displayPrice}}} {{/_source.showPrice}}
{{#_source.showLink}} {{/_source.showLink}} {{#_source.showDate}}{{{_source.displayDate}}}
{{/_source.showDate}}{{{_source.description}}}
{{#_source.additionalInfo}}{{#_source.additionalFields}} {{#title}} {{{label}}}: {{{title}}} {{/title}} {{/_source.additionalFields}}
{{/_source.additionalInfo}}
Wafers
-
Rusland presenteert alternatieve EUV-roadmap tot 2037: sub-10nm productie zonder ASML-architectuur
Het Instituut voor Microstructuurfysica van de Russische Academie van Wetenschappen heeft een langetermijnplan gepresenteerd voor de ontwikkeling van eigen EUV-lithografiemachines met een golflengte van 11,2 nanometer. De roadmap loopt van 2026 tot 2037 en voorziet in een gefaseerde opbouw richting sub-10nm productietechnologie.{nozuna nzgallery}4267aac4-9ca2-11f0-8b63-000c2932240f{/nozuna nzgallery} Opvallend is dat de Russische aanpak niet... [meer]