Wafers
  • Rusland presenteert alternatieve EUV-roadmap tot 2037: sub-10nm productie zonder ASML-architectuur

    Het Instituut voor Microstructuurfysica van de Russische Academie van Wetenschappen heeft een langetermijnplan gepresenteerd voor de ontwikkeling van eigen EUV-lithografiemachines met een golflengte van 11,2 nanometer. De roadmap loopt van 2026 tot 2037 en voorziet in een gefaseerde opbouw richting sub-10nm productietechnologie.{nozuna nzgallery}4267aac4-9ca2-11f0-8b63-000c2932240f{/nozuna nzgallery} Opvallend is dat de Russische aanpak niet... [meer]