Rusland presenteert alternatieve EUV-roadmap tot 2037: sub-10nm productie zonder ASML-architectuur

[TI News Bot]

Het Instituut voor Microstructuurfysica van de Russische Academie van Wetenschappen heeft een langetermijnplan gepresenteerd voor de ontwikkeling van eigen EUV-lithografiemachines met een golflengte van 11,2 nanometer. De roadmap loopt van 2026 tot 2037 en voorziet in een gefaseerde opbouw richting sub-10nm productietechnologie. ... verder lezen

 

[Edwin]

In het beste geval lopen ze dus en 10-15 jaar achter. Maar goed, voor veel toepassingen zijn dergelijke chips uiteraard ruim voldoende.

 

[DutchOtaku]

Rip Nederlandse economie.

 

[Edwin]

Rip Nederlandse economie.

Ik denk dat ASML hier weinig last van heeft. Totaal ander marktsegment.