EUV
-
VS beschuldigt ASML van hulp aan China, chipmachinefabrikant ontkent aantijgingen fel
Het Nederlandse chipmachinebedrijf ASML heeft zich fel verweerd tegen beschuldigingen vanuit de Verenigde Staten dat het China zou hebben geholpen bij het verkrijgen van EUV-technologie. Volgens de Amerikaanse overheid zouden Chinese partijen mogelijk toegang hebben gekregen tot kennis of onderdelen die gebruikt kunnen worden voor de ontwikkeling van geavanceerde chipproductieapparatuur. ASML stelt echter dat het nooit EUV-machines of speciaal... [meer] -
ASML wil EUV-chipproductie met helft opdrijven tegen 2030 door nieuwe lichtbron
ASML heeft een doorbraak bereikt op het gebied van belichting in zijn EUV-lithografiemachines. Dat bevestigd het Nederlandse bedrijf in een interview met Reuters. Door het gebruik van een nieuwe lichtbron in zijn EUV-chipmachines moet het naar eigen zeggen mogelijk zijn om de chipproductie met maximaal de helft op te drijven tegen 2030. Onderzoekers van ASML hebben een manier ontdekt om de EUV-lichtbron te boosten van 600 naar 1.000 watt. Dit... [meer] -
Reuters: China bouwt prototype EUV-chipmachine met hulp van ex-ASML-ingenieurs
Chinese wetenschappers hebben een prototype gebouwd van een EUV-lithografiemachine, aldus Reuters. Met zo'n machine kunnen de meest geavanceerde chips worden gemaakt, waarvan de productie naar verwachting in 2030 zou kunnen starten. De technologie is geband voor export naar China, waardoor de overheid naar verluidt ex-ASML-werknemers inschakelde. Reuters spreekt van een Manhattan Project voor het land, een verwijzing naar de geheime... [meer] -
Rusland presenteert alternatieve EUV-roadmap tot 2037: sub-10nm productie zonder ASML-architectuur
Het Instituut voor Microstructuurfysica van de Russische Academie van Wetenschappen heeft een langetermijnplan gepresenteerd voor de ontwikkeling van eigen EUV-lithografiemachines met een golflengte van 11,2 nanometer. De roadmap loopt van 2026 tot 2037 en voorziet in een gefaseerde opbouw richting sub-10nm productietechnologie.{nozuna nzgallery}4267aac4-9ca2-11f0-8b63-000c2932240f{/nozuna nzgallery} Opvallend is dat de Russische aanpak niet... [meer] -
TSMC’s tweede fabriek in Japan loopt mogelijk tot 18 maanden vertraging op
De TSMC Fab 23 phase 2, of JASM phase 2, zou oorspronkelijk beginnen met de massaproductie van chips in de tweede helft van 2027. Door de vertraging lijkt dit pas in 2029 te gaan gebeuren. De eerste productielocatie in Japan van TSMC begon in december vorig jaar met massaproductie. De reden voor de vertraging zou de lokale gebrekkige infrastructuur zijn. Het grootste probleem zou te maken hebben met het files. Normaal gezien duurt het... [meer] -
ASML CEO stelt dat Chinese concurrenten nog ruim 10 jaar achterlopen op gebied van EUV, maar niet op het gebied van DUV
Sinds het exportverbod vanuit de Verenigde Staten voor Extreme Ultra Violet (EUV) lithografiemachines naar China, hebben Chinese chipfabrikanten de nodige moeite om zich verder te ontwikkelen. SMIC heeft in samenwerking met Huawei mooie stappen gemaakt wanneer het gaat om Deep Ultra Violet (DUV) lithografie, maar volgens ASML-topman Christophe Fouquet zal het nog zeker 10 tot 15 jaar duren eer de bedrijven ook EUV-machines zelf kunnen... [meer] -
Concurrentie voor ASML? Canon levert eerste nanoprint-lithografiemachine
Canon heeft zijn allereerste nanoprint-lithografiemachine, de FPA-1200NZ2C, geleverd aan het Texas Institute for Electronics (TIE). Met deze machine positioneert Canon zich als een betaalbaar alternatief voor de ultraviolette (EUV) en diepe ultraviolette (DUV) fotolithografietechnologie van ASML, de Nederlandse marktleider. Betaalbaar alternatief voor EUV? Canon onthulde de FPA-1200NZ2C in oktober 2023 en prees de machine om zijn... [meer] -
Micron neemt EUV-machines in gebruik in navolging van andere grote DRAM-producenten
Het is de bedoeling dat de massaproductie van DRAM uit EUV-machines van start gaat in 2025. Hiervoor introduceert het bedrijf ook een nieuwe process-node genaamd 1-gamma. Deze naamgevingen worden veel in de DRAM-industrie gebruikt omdat het verkleinen van het productieprocedé niet zoveel voordelen oplevert als bij processors of gpu’s. Toch is de mogelijkheid om kleinere patronen te graveren in het silicium een voordeel gezien de overstap naar... [meer] -
ASML hoopt nog geavanceerdere “Hyper-NA” machines te leveren vanaf 2030
Tegen industrie verwachtingen in kondigde Martin van den Brink de volgende generatie van EUV-lithografie chips aan. De, tot voor kort, CTO van ASML liet weten dat de zogenaamde Hyper-NA machines in een vroeg stadium van ontwikkeling zijn. De modernste machines van ASML maken gebruik van een ‘numerical aperture’ of NA van 0,55. De eerste generatie van EUV had een NA van 0,33, en Hyper-NA moet staan voor een NA van 0,75. In 2021 gaf het bedrijf... [meer] -
ASML levert de Twinscan NXE3800E; Eerste generatie Low-NA EUV-machine voor 2nm chips
Hoewel Low-NA extreme ultraviolet lithography misschien niet meer in de schijnwerpers staat, gezien de nieuwe High-NA extreme ultraviolet machines die op de horizon verschijnen en waar Intel als eerste mee aan de slag wil gaan, zal het nog wel even duren voordat deze machines relevant worden. Het grootste deel van de chips die de komende jaren worden geproduceerd, zal nog steeds met behulp van de oudere Low-NA-technologie EUV... [meer] -
Intel 14A-procedé biedt 15% meer prestaties per watt dan Intel 18A
Intel heeft meer informatie onthuld over zijn aankomende productieprocessen tijdens de SPIE 2024-beurs. Volgens senior vicepresident Anne Kelleher leveren Intel 14A-gebaseerde chips 15% meer prestaties per watt in vergelijk met producten die 18A gebruiken. Het daaropvolgende Intel 14A-E moet op zijn beurt de efficiëntie van 14A met nog eens 5% verhogen. De fabrikant heeft eind februari Intel 14A en 14A-E onthuld. De eerste testchips worden in... [meer]