Advertentie
Tussen de productie in Intel 18A en Intel 18A-P moet, als de plannen allemaal lukken, de productie in Intel 14A beginnen en hier zal voor het eerst verlichting met High-NA EUV met een diafragma (NA) van 0,55 worden gebruikt voor een paar lagen in de chipproductie.
In principe is alleen de Intel 14A familie ontworpen om High-NA EUV te gebruiken in de belichting. Voor Intel 18A zal een diiafragma (NA) van 0,33 gebruikt blijven worden en dus, zoals al meerdere keren aangekondigd, zal Intel 14A het eerste proces van Intel zijn dat High-NA EUV gebruikt.
Intel laat zichzelf echter een kleine maas in de wet, omdat het zich er terdege van bewust is dat het gebruik van High-NA EUV risico's met zich meebrengt. Deze omvatten de verschillende technische uitdagingen, die Intel nog niet allemaal onder de knie heeft, zelfs als alles volgens plan verloopt bij de ontwikkeling van productie met High-NA EUV, volgens Intel. Daarbij komen nog de enorme kosten, aangezien een enkele ASML Twinscan NXE:5000 High-NA EUV belichtingsmachine ongeveer 400 miljoen euro kost.
Volgens Dr. Naga Chandrasekaran, EVP, CTO en GM van Intels gieterijdivisie, wordt het risico geminimaliseerd door de productie in Intel 14A zo te ontwerpen dat zowel High-NA EUV (0,55 NA) als Low-NA EUV (0,33 NA) gebruikt kan worden.
Intel heeft huidige gegevens over de productie in Intel 18A en Intel 14A, waardoor de opbrengst gelijk is aan die van High-NA EUV en Low-NA EUV. Met de komende verdere ontwikkeling van beide procestechnologieën, zullen we kijken hoe de verschillende processen zich tot elkaar verhouden en dan beslissen welk productieproces gebruikt zal worden. Het draait allemaal om de juiste optie op het juiste moment.
De ontwerprichtlijnen tussen de twee fabricageprocessen moeten vergelijkbaar blijven, zodat klanten en Intel zelf geen wijzigingen hoeven aan te brengen in het chipontwerp zelf. High-NA EUV zal sowieso alleen voor een paar metaallagen gebruikt worden, de rest zal in Low-NA EUV gefabriceerd worden. Deze paar lagen met High-NA EUV moeten dan worden geconverteerd en vervangen. Dit betekent echter ook dat een High NA EUV-laag met één belichtingsstap wordt ingeruild voor een LowNA EUV met drievoudige patroonvorming en dus drie belichtingsstappen. Het is op dit moment moeilijk te beoordelen welke implicaties dit heeft voor het fabricageproces als geheel.
Op zijn minst verkleint Intel, door geen EUV met High NA te hoeven gebruiken, het risico op vertragingen in de levering van Intel 14A en, in het ergste geval, op aanzienlijk vertraagde producten. Dit was het geval bij de productie in 10 nm, en Intel heeft de bijbehorende effecten jarenlang niet van zich af kunnen schudden.