Advertentie
Chinese wetenschappers hebben een prototype gebouwd van een EUV-lithografiemachine, aldus Reuters. Met zo'n machine kunnen de meest geavanceerde chips worden gemaakt, waarvan de productie naar verwachting in 2030 zou kunnen starten. De technologie is geband voor export naar China, waardoor de overheid naar verluidt ex-ASML-werknemers inschakelde.
Reuters spreekt van een Manhattan Project voor het land, een verwijzing naar de geheime Amerikaanse ontwikkeling van de atoombom tijdens de Tweede Wereldoorlog. Zo zou de Chinese overheid een team van onder meer voormalige ASML-ingenieurs aan het werk hebben gezet in een streng beveiligd lab in Shenzhen om in uiterste geheimhouding de extreem-ultravioletlithografiemachine van het Nederlandse bedrijf te reverse-engineeren. Tijdens de ontwikkeling van de machine kregen werknemers nieuwe namen toegewezen, zodat het niet duidelijk was wie er werkte.
Bronnen vertellen aan Reuters dat de Chinese overheid via tussenpersonen componenten van oudere ASML-machines bemachtigde via de tweedehands markt. Bij de bouw van het prototype zouden ook componenten van de Japanse fabrikanten Nikon en Canon zijn ingezet – onderdelen die geband zijn voor export naar China.
Het prototype zou begin 2025 voltooid zijn en bijna een hele fabrieksvloer in beslag nemen. Hoewel de machine in staat zou zijn om extreem ultraviolet licht te genereren, zijn er naar verluidt tot dusver geen werkende chips gemaakt. Het project zou met verschillende grote technische uitdagingen kampen, waaronder het namaken van de precieze westerse optica. Om deze redenen ziet het ernaar uit dat de machine klaar moet zijn voor productie in 2030. De Chinese overheid zou al vanaf 2028 werkende chips van de band willen zien rollen.