Advertentie
ASML heeft een doorbraak bereikt op het gebied van belichting in zijn EUV-lithografiemachines. Dat bevestigd het Nederlandse bedrijf in een interview met Reuters. Door het gebruik van een nieuwe lichtbron in zijn EUV-chipmachines moet het naar eigen zeggen mogelijk zijn om de chipproductie met maximaal de helft op te drijven tegen 2030.
Onderzoekers van ASML hebben een manier ontdekt om de EUV-lichtbron te boosten van 600 naar 1.000 watt. Dit zorgt ervoor dat een lithografiemachine meer wafers per uur kan verwerken en dus meer chips kan maken, wat op zijn beurt de kosten per chip verlaagt. ASML zegt tegen Reuters dat klanten, zoals Intel of TSMC, hierdoor tegen het eind van dit decennium in staat moeten zijn om zo'n 330 wafers per uur te verwerken per machine, in plaats van de huidige 220.
ASML benadrukt dat het niet om "een goocheltruc of iets dergelijk gaat", waarbij men "heel even laat zien dat het kan werken". Klanten moeten in dezelfde productieomstandigheden in staat zijn om de krachtigere lichtbron in te zetten. Het bedrijf ziet daarnaast een "redelijk duidelijk" pad naar 1.500 watt en geen "fundamentele" reden waarom 2.000 watt niet mogelijk zou zijn.